物体表面に摩擦低減、耐熱性、耐摩耗性、絶縁性、防錆性などを付加する薄膜技術は部品製造において不可欠です。
本講座では、薄膜形成のトラブル対策や製造プロセス改善の具体的ノウハウを説明し、高品質化と生産性向上の要点を学ぶことが可能です。
～製造プロセスの効率化と製品の高品質化のための～
真空薄膜形成技術のトラブル事例・対策と密着・信頼性改善/コスト低減/生産性向上のノウハウ
主催：テックデザイン
日時：2019年6月7日（金） 10:30 ～ 16:30
会場：テックデザイン会議室（東京 門前仲町駅）orリファレンス西新宿（東京 新宿駅）【東京】
受講料：：29,980円(税込)
現代の機械製造において、真空技術・薄膜形成技術は欠かせないものとなっていますが、それ故に製造時におけるトラブル対策や信頼性・生産性の改善は製品の安定供給に必須となっております。本講座は、薄膜の製造や研究開発に携わる技術者や、薄膜を活用する技術者に、薄膜技術に関する具体的事例に基づく知見を分かりやすく提供します。薄膜技術においても他の技術と同様に、装置や材料の技術進歩によって薄膜の機能や生産性は高まっていますが、一方でプロセスの作り込みについてはブラックボックス化が進む方向性であるため、現在プロセスを扱う技術者にこそ、薄膜形成技術のより深い理解が重要となります。
本講座では、真空蒸着、スパッタリング、CVDなどの真空薄膜形成技術の基本について解説し、薄膜製造時の高品質化と不具体対策のトラブル対策ノウハウを解説します。薄膜品質の向上と生産性向上のために本講座を活用してください。
プログラム
1. 薄膜形成に関する基礎知識
1.1 薄膜とは何か ～定義、性質、機能～
1.2 薄膜の成長過程と真空技術の基本
1.3 真空蒸着法の原理
1.4 スパッタリング法の原理
1.5 化学的気相成長（CVD）法の原理
1.6 薄膜の設計と評価
2. 薄膜製造プロセスのトラブルの具体的事例と対策
2.1 薄膜の品質と物理化学的現象の関係
2.2 膜質を分析する～組織観察、成分分析、結晶解析～
2.3 膜厚バラツキの原因と対策
2.4 特性不安定化の原因と対策
2.5 外観不良の原因と対策
2.6 微小欠陥の原因と対策
3.薄膜の密着性・耐久性改善のポイント
3.1 密着性・信頼性の評価技術
3.2 薄膜の密着と剥離のメカニズム
3.3 剥離モード解析からの原因追究
3.4 界面の密着強度の向上
3.5 膜厚と応力の最適化
4. 薄膜形成のコスト低減・生産性向上について
5.1 薄膜工程の原価の考え方
5.2 材料コスト低減の方法
5.3 成膜装置の稼働率とメンテナンス
5.4 生産能力アップの方法
5.5 薄膜技術の生産性向上に関する最新動向
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