薄膜形成・品質制御の高度化から先端分野の最新活用事例までご紹介します。
新しい時代のものづくりに必須の薄膜技術の開発活用に役立てていただけると幸いです。
薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用の最新動向2019
～薄膜形成・品質制御の高度化から先端分野の最新活用事例まで～
主催：アイアール技術者教育研究所
日時：2019年5月16日（木） 10:30 ～ 16:30
会場：日本アイアール本社【東京】
受講料：：36,000円(税別)
真空技術および真空成膜技術は、半導体などの電子デバイスや機械部品の表面機能化のために広く活用されている大変重要な技術です。医療機器や家電、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野においてもますますその活用が見込まれます。
近年の薄膜技術は、装置や材料の進歩が目覚ましく、高品質化を実現しています。しかし薄膜に対する技術的要求もさらに高くなっています。新しい用途や薄膜構成を開発し量産化しようとすると、品質トラブルが発生しやすくなります。高いポテンシャルを持つ真空成膜技術を真に使いこなすには、真空成膜の原理と高品質化の基本を理解して、高い特性や性能を実現しつつ不具合を防止していく必要があります。
本講座では、真空技術および薄膜技術の基本と、各種薄膜技術の原理を紹介し、薄膜の設計から高品質化・不具合対策まで、重要なポイントを解説します。
後半では、医療機器や家電、建材、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野を中心に、薄膜技術の最新の応用事例を技術原理の解説とともに紹介します。金属やガラスからのプラスチックへの代替、バイオミメティックス（生体模倣）による表面機能付与、IoTへの活用が期待される薄膜電池・センサ・デバイスなど、応用分野は限りなく広がろうとしています。新しい時代のものづくりに必須の薄膜技術の開発活用に役立てていただけると幸いです。
プログラム
1. 薄膜形成に関する基礎知識
1.1 薄膜とは何か ～定義、性質、機能～
1.2 薄膜の成長過程と真空技術の基本
1.3 真空蒸着法の原理
1.4 スパッタリング法の原理
1.5 化学的気相成長（CVD）法の原理
1.6 薄膜の前処理と後工程の目的と原理
1.7 薄膜の設計・開発の進め方
1.8 薄膜の特性・信頼性評価
2. 薄膜製造プロセスの品質制御と工程の高度化
2.1 薄膜の品質と物理化学的現象の関係
2.2 膜質を分析する～組織観察、成分分析、結晶解析～
2.3 特性不安定化の原因と対策
2.4 薄膜プロセスのモニタリングと安定化の打ち手
2.5 外観不良・微小欠陥の原因と対策
2.6 密着性・信頼性不良の原因と対策
2.7 薄膜プロセスのコスト低減のセオリー
2.8 成膜装置の生産能力アップの方法
3. 薄膜技術応用の最新動向
3.1 装飾・カラーリング・光学機能を変える構造膜
3.2 特殊表面機能付与を実現するバイオミメティック薄膜
（無反射、超撥水・親水、接着、潤滑、空力 他）
3.3 建材・航空・宇宙への応用が進む熱・電磁波制御薄膜
3.4 自動車やFPDで用例が拡大するガスバリア薄膜
3.5 次世代モバイル用フレキシブル薄膜とそのアセンブリ
3.6 車載デバイス用透明導電膜の曲面・フレキシブル対応
3.7 ウェアラブル・IoTのキーとなる薄膜デバイス
3.8 医療分野からエレクトロニクスへと展開する有機薄膜
3.9 VEが期待されるCVD・AD法の高度化
講座へのお申込み／お問合せはこちら